Grades de pureté cibles MH Niobium disponibles
Cible de niobium à 99,95 % (4N)
● Ultra-pureté élevée avec des impuretés métalliques et gazeuses extrêmement faibles
● Plasma stable, faible génération de particules
● Convient aux films électroniques semi-conducteurs, supraconducteurs et-haut de gamme.
Cible de niobium à 99,9 % (3N)
● Haute pureté avec un excellent rapport coût-performance
● Stabilité de pulvérisation fiable pour les applications de revêtement industriel
● Convient aux revêtements électroniques, optiques et fonctionnels généraux
Formes cibles MH Niobium
Nous fournissons des cibles en niobium dans plusieurs géométries pour correspondre à différents systèmes de pulvérisation :
Cible rectangulaire/carrée
● Systèmes de pulvérisation planaire
● Cathodes de pulvérisation magnétron
● Dépôt de film uniforme sur une grande surface-
Cible tubulaire
● Systèmes de pulvérisation rotative
● Taux d'utilisation cible plus élevé
● Amélioration de l'uniformité du revêtement et de l'efficacité de la production
(Dimensions personnalisées et options de collage disponibles sur demande.)
Plage de spécifications de la cible MH Niobium
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Pureté |
99.9%, 99.95% |
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Densité |
Supérieur ou égal à 99,9% de la densité théorique |
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Structure des grains |
Fin et uniforme |
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Finition de surface |
Ra0,4 |
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Cible rectangulaire/carrée |
Longueur inférieure ou égale à 3000 mm, largeur inférieure ou égale à 800 mm, épaisseur (mm) 1 ~ 20 mm |
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Cible tubulaire |
Diamètre extérieur 10-400 mm, mur 2-28 mm |
99,95 % contre 99,9 % – Guide de sélection
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Article |
Cible de 99,95 % du Nb |
Cible de 99,9 % du Nb |
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Niveau de pureté |
Ultra-haute pureté (4N) |
Haute pureté (3N) |
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Teneur en impuretés |
Extrêmement faible |
Faible |
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Qualité du film |
Uniformité et stabilité les plus élevées |
Stable, de qualité industrielle- |
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Génération de particules |
Minimal |
Faible |
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Applications typiques |
Semi-conducteurs, films supraconducteurs, R&D |
Revêtements optiques, films fonctionnels, production de masse |
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Niveau de coût |
Plus haut |
Plus économique |
Cible rectangulaire ou tubulaire – Guide de sélection
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Comparaison |
Cible rectangulaire/carrée |
Cible tubulaire |
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Compatibilité des processus |
Pulvérisation planaire, pulvérisation magnétron |
Pulvérisation cylindrique |
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Utilisation des matériaux |
20%~30% |
70%~85% |
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Coût d'approvisionnement |
Modéré |
Beaucoup plus élevé que les cibles en plaque |
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Efficacité de production |
Petits lots, revêtements multi-variétés |
Grands lots et revêtements continus |
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Traitement de surface |
Meulage fin et polissage |
Broyage fin, plus difficile |
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Matériaux proposés |
Niobium pur (99,95 %), Nb-1Zr |
Niobium pur (99,95 %), Nb-1Zr (usage spécial haute température) |
Applications typiques de la cible MH Niobium
Films minces semi-conducteurs
Revêtements de niobium supraconducteurs
Revêtements optiques et décoratifs
Affichage et appareils électroniques
Recherche et films fonctionnels avancés
Pourquoi choisir les cibles MH Niobium
● Haute pureté et performances de pulvérisation stables
● Microstructure uniforme et haute densité
● Plusieurs géométries disponibles : rectangulaire et tubulaire
● Dimensions personnalisées et solutions de collage
● Utilisation éprouvée dans les applications de revêtement avancées
Nos cibles de pulvérisation en niobium offrent une pureté fiable, un comportement de pulvérisation cohérent et des performances de film de haute-qualité pour les applications exigeantes en couches minces.
Fabrication sur mesure de cibles MH Niobium
Nous proposons des solutions de cibles en niobium personnalisées, notamment :
● Dimensions non-standards
● Contrôle de tolérance strict
● Finitions de surface spéciales
● Exigences techniques spécifiques à l'application-
Veuillez fournir des dessins ou des spécifications détaillées pour évaluation.
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